Ultrasonic vortex nozzle
涡流型超声波喷嘴
涡流型超声波喷嘴利用压缩空气的涡流成型作用，对超声雾化后的液滴进行整形和引导，形成稳定、均匀的旋转喷雾。喷雾颗粒在低速旋转气流中充分分散，可有效覆盖立面、沟壑、凹槽及其他复杂结构，减少喷涂死角和液滴聚集。喷雾范围可根据喷涂距离、气体流量、液体流量及探头振幅灵活调节，从而提高涂层的均匀性、附着力和材料利用率，适用于精密喷涂及复杂工件表面处理。
Hertz A4003
- 频率：40KHz
- 功率：<10W
- 中位粒径：44um
- 喷涂宽度：4~8cm
- 喷嘴孔径：0.8、1.0mm
- 气管外径：8mm
- 液管外径：3mm
- 流量：1~8ml/min
- 塑形气压：<20KPa
Hertz A6004
- 频率：60KHz
- 功率：<10W
- 中位粒径：32um
- 喷涂宽度：4~8cm
- 喷嘴孔径：0.8、1.0mm
- 气管外径：8mm
- 液管外径：3mm
- 流量：1~8ml/min
- 塑形气压：<20KPa
Hertz A12004
- 频率：120KHz
- 功率：<5W
- 中位粒径：18um
- 喷涂宽度：3~6cm
- 喷嘴孔径：0.6mm
- 气管外径：6mm
- 液管外径：3mm
- 流量：0.5~4ml/min
- 塑形气压：<20KPa
液体要求
- 液体粘度：<30cps
- 固液比：<25%
- 固体颗粒：<3um
电源参数
- 频率：40~120KHz
- 整机功率：<20W
- 通讯：I/O Modbus
- 控制：彩色触控屏
- 尺寸：32*23*87cm
超声波喷嘴特性
涡流型超声波喷嘴常用于光刻胶喷涂，尤其适合晶圆、MEMS器件及其他具有三维微结构的基材。相比传统旋涂工艺，细小、柔和的雾化液滴能够更好地进入深槽、V形槽和高深宽比结构，对顶部、侧壁及底部进行连续覆盖，减少边角处光刻胶堆积、侧壁膜层过薄或局部断层等问题。
配合精密供液、运动控制及超声波发生器的相位追踪功能，可对喷涂流量、运行速度和沉积量进行稳定控制，并通过多次薄层叠加获得所需膜厚。低流量、非接触式喷涂方式能够减少过喷和光刻胶浪费，提高喷涂过程的一致性与重复性。
超声波喷涂的优势
- 超声波涡流型喷嘴的优点在于能适应复杂表面，如沟槽或曲面，确保光刻胶涂层的均匀性和可靠性。
- 喷雾的旋转速度可以根据具体应用进行调整，确保在不同应用场景中都能实现最佳效果。
- 涡流喷嘴利用低速气流形成精确可控的喷雾图案，避免过喷，产生非常薄且均匀的涂层，适用于高均匀性要求的涂层工艺。
- 涡流喷嘴广泛应用于各种工业和科研领域，包括涂覆燃料电池、太阳能电池、光刻胶和聚酰亚胺薄膜等。
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