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光刻胶涂覆工艺—槽模涂层

为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性,必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中,是一种高粘度材料。根据工艺要求,有许多工艺可用于涂覆光刻胶。

今天我们来介绍下光刻胶涂覆工艺的槽模涂层技术。

这里讨论的涂覆光刻胶的最终方法是槽模涂覆。槽模涂层是一种可扩展的制造技术,用于一系列工业过程,以生产均匀的薄膜和涂层。槽模涂覆的原理如上图所示。打印头连续地将光刻胶分配到基材的移动表面上,产生均匀的光刻胶膜。当湿光刻胶中的溶剂蒸发时,光刻胶薄膜干燥,留下均匀的薄膜,然后可以进一步加工。

槽模涂布是一种预计量的涂装技术;这意味着从涂布机的打印头分配的所有材料都用于涂布基材的表面。这使得光刻胶浪费水平非常低(甚至没有),如果光刻胶代表较大的材料成本,这是一个很大的优势。槽模涂层的其他优点是它是一种易于扩展的技术,可以大大增加基板的数量。槽模涂布也非常适合涂覆柔性基板和卷对卷制造工艺。除了光刻胶的涂层外,槽模涂层(如喷墨印刷)还可用于涂覆任何可以分散到可打印墨水中的功能性材料。

 

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