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光刻胶涂覆工艺—喷墨打印

为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性,必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中,是一种高粘度材料。根据工艺要求,有许多工艺可用于涂覆光刻胶。

今天我们来介绍下光刻胶涂覆工艺的喷墨打印技术。

用于分配抗蚀剂的另一种方法是喷墨打印。这的工作方式类似于喷涂,产生光刻胶液滴。然而,与喷涂不同,这些液滴是在流而不是雾中产生的。然后可以精确控制这种液滴流并将其图案化到基板上。

喷墨印刷与其他涂层方法不同,虽然它可以用来生产均匀的光刻胶薄膜,但其使用的真正优势在于使用它直接对基材进行图案化。这可以通过仅在需要的地方沉积来显着节省使用的光刻胶量,从而降低光刻工艺的成本和环境影响。此外,可以直接将有机半导体和导电油墨等材料沉积到表面上,而无需运行光刻工艺。

喷墨打印增加灵活性和多功能性的缺点是涂层时间增加,导致涂层晶圆和基材的吞吐量降低。但是,这可以通过使用多个打印头和路径优化来抵消。此外,喷墨打印不是涂覆较厚抗蚀剂的理想解决方案,因为层厚通常只有几微米。

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