创新工艺标准,开拓无限可能
赫兹声电LOGO
  1. 首页
  2. 知识库
  3. 超声波喷涂
  4. 光刻胶涂覆工艺—浸涂

光刻胶涂覆工艺—浸涂

为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性,必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中,是一种高粘度材料。根据工艺要求,有许多工艺可用于涂覆光刻胶。今天我们来介绍下光刻胶涂覆工艺的浸涂技术。

如果基材的尺寸和类型不适合旋涂,并且光刻胶对整个过程的成本很高,则使用浸涂作为抗蚀剂涂覆的解决方案,即使与喷涂相比,也必须进一步减少光刻胶的消耗。

浸涂的过程是将晶片垂直浸入比色皿中,然后缓慢地抬出。然后,抗蚀剂膜在表面上形成,并随着基板从光刻胶浴中取出而变薄。抗蚀剂的厚度由在充满溶剂的饱和气氛中的停留时间控制,该气氛控制溶剂蒸发速率。从光刻胶槽中取出的速度越高,光刻胶膜越厚。

作为该过程的结果,如果基材的两面都需要涂层,则抗蚀剂的产量可以达到100%,与旋涂和喷涂相比,光刻胶产量大大提高。如果抗蚀剂在消耗前过期,则可能必须更换储罐,这将降低产量,但仍提供所涵盖的三种涂层方法中最具成本效益的方法。

光刻胶通常必须被显着稀释,这会显着增加光刻胶膜的老化和必须更换罐的频率。此外,表面形貌变化较大的基材不适合,因为抗蚀剂会流过基材并显着降低表面均匀性。

本文是否有帮助?

相关文章

需要支持吗?

是否找不到您感兴趣的内容?
联系我们